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    更新時(shí)間:2024-12-05

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    Logitech將推出全新的LP70多工位精密研磨和拋光系統(tǒng)。 該高度自動(dòng)化系統(tǒng)具有創(chuàng)新的特性和功能,是需要高規(guī)格表面光潔度和平整度應(yīng)用的多晶圓加工的理想解決方案。
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    更新時(shí)間:2024-12-05

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    PM6精密研磨拋光系統(tǒng)是生產(chǎn)商英國(guó)logitech公司發(fā)布的一款適用于科學(xué)研究水平的研磨和拋光機(jī)型,該機(jī)型是PM5型的升級(jí)版。能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批量處理,整個(gè)過(guò)程全封閉控制,并內(nèi)置自清洗功能,提升對(duì)操作人員的安全保護(hù);全部采用電腦程序控制,可實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)傳輸、工藝存儲(chǔ)及數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)監(jiān)控與反饋等功能。
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    更新時(shí)間:2024-12-05

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    Akribis-Air智能研磨拋光機(jī),具有高度自動(dòng)化的獨(dú)立系統(tǒng),提供了工藝創(chuàng)新,在短時(shí)間內(nèi)可實(shí)現(xiàn)Z高水平的處理。完整的Akribis-air研磨拋光系統(tǒng)具有智能自動(dòng)化的功能,如盤面平整度控制、夾具自動(dòng)設(shè)置、動(dòng)態(tài)負(fù)荷控制、增加控制參數(shù)、實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)收集和反饋、計(jì)量磨料供應(yīng)、自動(dòng)清洗功能等。
  • CMP Orbis 柜式化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備,The Orbis CMP system is a precision engineered, floor standing CMP tool ideally suited for R&D environments where the main purpose or application is to conduct pilot production tests with optimum ....
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    更新時(shí)間:2016-04-19

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    The Logitech DP high speed polishing systems have been designed for semi automated ?nal stage polishing of hard materials, such as sapphire, silicon carbide or gallium nitride, to epitaxy ready qualit
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    更新時(shí)間:2024-12-05

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    The Logitech DL precision lapping systems process materials with high geometric precision. These systems can process up to 4, 200mm/8” Ø samples (or multiple smaller samples) simultaneously.
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